EUV統計缺陷阻礙5奈米晶片上市 Imec發現可提前上市的優化之道
(編譯/Vincent) 深紫外線(Extreme-ultraviolet, EUV)微影技術看來今年稍後就會登場,要製造數目龐大、且電路更細小的積體電路將變得更為容易。不過對下一代、電路更形微小的晶片,EUV還能夠繼續沿用嗎?比利時奈米電子暨數位科技研發創新中心Imec發現了EUV用在5奈米晶片會遇到的一些問題,而這些5奈米晶片原本預計在2020年晚期將進入量產。依照高等黃光技術計畫經理Kurt Ronse的說法,這些問題不是無解,但是要費的功夫不少。 EUV用來決定電晶體及連線線寬的光波長是13.5...